电子级多晶硅循环氢气深冷分离除杂技术研究

许 跃
江苏中能硅业科技发展有限公司

摘要

目前在化工行业发展过程中，对于各项的化工工艺而言，伴随着现代化科技的不断更新和改造，对于多种杂质来源和去除工艺的质量要求越来越高。本文通过分析电子级多晶硅循环氢气深冷分离除杂技术，结合整个回收装置中的杂质种类和来源，确定相关的去除工艺，在明确循环氢气深冷分离除杂技术的主要原理后，通过解决在氢气循环过程中磷化氢的累积情况，更好地对之中的杂质进行深度分离，从而保证在还原炉化学气相沉积过程中循环氢气的纯度时，能够更好地达成预期的目标。

关键词

电子级多晶硅；循环氢气；深冷；杂质

参考

[1] 杨涛．改良西门子法生产多晶硅工艺设计探讨 ［J］．贵州化工，2009，34（3）：7 － 11．

[2] 温雅，胡仰栋，单廷亮．改良西门子法多晶硅生产中分离工艺的改进［J］．化学工业与工程，2008，25（2）：154 － 159．

[3] 周祥顺，王钟辉，胡小冬，等．多晶硅生产氯 化氢回收工艺的模拟与优化［J］．现代化工，2012，32（4）：104 － 106，108．

[4] 宋东明，谢刚，马卓煌，等．多晶硅材料制备 中施主杂质磷的模拟计算研究［J］．功能材料与器件学 报，2013，19（3）：105 － 108．